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 产品型号:D700MG
产品型号:D700MG
 更新时间:2025-04-07
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 厂商性质:代理商
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 访问量:200
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| 品牌 | HORIBA/堀场 | 价格区间 | 面议 | 
|---|---|---|---|
| 产品种类 | 差压式 | 介质分类 | 气体 | 
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 环保,食品/农产品,化工,电子/电池,汽车及零部件 | 
| 动态范围 | 2 SCCM 起 | 支持气体 | 支持多种气体及单位(sccm ~ slm) | 
| 控制精度 | ±1% S.P. | 响应时间 | ≤ 100 ms | 
| 通信接口 | DeviceNet / PROFIBUS / EtherCAT 等 | 使用温度 | 15°C ~ 60°C | 
HORIBA D700MG 是一款高响应压力非敏感质量流量控制器,专为半导体及相关行业中对高精度、快响应和耐腐蚀性有严格要求的气体输送工艺而开发。产品具备优秀的控制性能及自诊断能力,适用于刻蚀、沉积等关键制程。
超快响应性能
D700MG 实现了小于 100 ms 的响应时间(符合 SEMI E17-1011 标准),显著提升系统动态性能,减少气体滞后。
压力扰动不敏感设计
内部结构与算法支持压力扰动补偿,即使在进出口压力波动(≤ ±70 kPa/s)时也能保持稳定流量。
小流量控制能力出众
支持 Bin101 至 Bin105 流量等级,可用于 2 SCCM 起的小流量精密控制(2 SCCM 以下不保证精度)。
智能状态监控功能
内置诊断系统,可记录:
压力和流量调零计数
阀门驱动变化次数
最大/最小流量和压力变化 实现预防性维护和远程故障预警。
增强的阀门关闭性能与耐腐蚀性
采用 PFA(全氟烷氧基)喷嘴结构,有效抑制颗粒产生,提高化学兼容性与系统纯净度。

半导体刻蚀工艺(Etching)
原子层沉积(ALD)
化学气相沉积(CVD)
封装及材料气氛控制
OLED 显示面板制造