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更新时间:2026-08-13
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在光氧化还原催化、平行合成、反应条件筛选以及细胞光照实验中,LED光源工作时会产生热量。随着照射功率和运行时间增加,光源与样品的温度可能发生变化,进而影响反应速率、选择性、实验重复性以及生物样品状态。
因此,在选择Lumidox® II LED阵列时,除了波长、孔位规格和光功率外,还需要区分三个不同的问题:光源是否得到有效散热、样品是否需要维持在设定温度,以及实验是否需要主动加热或制冷。
Lumidox II LED阵列提供主动冷却底座、实体底座和流道冷却底座。三种底座首先解决的是LED阵列自身的散热问题,但它们对样品温度的影响并不相同。
主动冷却底座内置风扇,不需要外接循环冷却设备即可对LED阵列进行散热。不过,风扇的主要作用是降低光源内部温度,并不能将样品自动控制在某个设定温度。
例如,使用主动冷却底座进行96孔板光照时,即使光源本身处于正常工作状态,样品温度仍可能受到光功率、照射时间、孔板材质、液体体积和环境温度影响。因此,对温度敏感的实验仍建议对样品温度进行监测。
主动冷却底座具有独立散热能力,使用相对简便,适合以下情况:
常规96孔板光照实验;
细胞或生物样品光照;
中低光功率实验;
不方便配置外部循环设备的实验室;
对样品温度没有严格设定值,但希望控制光源自身温升的应用。

主动冷却底座内置风扇,不适合直接处于强磁场环境。若实验需要使用滚轴式、翻滚式或其他能够产生较强磁场的搅拌装置,应提前确认风扇是否会受到干扰。
Lumidox II阵列可在37℃、95%湿度的培养环境中运行,但具体应用仍需考虑孔板适配、冷凝、灭菌要求及实验室操作规范。
实体底座不具备内置风扇,需要外部散热条件。常见方式是将实体底座与Thermal Transfer Deck(TTD)连接,再由外部循环设备提供冷却液。
在这种配置下,热量通过金属底座和TTD传递至循环液体,从而对LED阵列进行散热。与主动冷却底座相比,实体底座更适合较高光输出或需要与外部温控装置组合的实验。

需要注意,实体底座加TTD并不意味着样品温度会自动等于循环设备的设定温度。样品实际温度还会受到反应块、容器、液体体积、环境温度、照射功率及热传递效率影响。
流道冷却底座内部设有液体流道,可以直接连接外部循环冷却设备。冷却液从阵列底座内部流过,直接带走LED产生的热量,因此不需要额外配置TTD来冷却光源。
这种底座主要适合:
较高光功率实验;
长时间连续照射;
对光源散热效率要求较高的应用;
需要缩短阵列整体高度的装置;
需要配合部分搅拌或振荡设备的实验。

流道冷却底座的主要作用仍然是冷却LED阵列。如果用户需要准确控制反应样品温度,还需要结合温控反应块或其他样品温控装置。
Lumidox II控制器和主动冷却底座本身不具备设定样品制冷温度的功能。
如果实验需要将样品维持在低于室温的条件下,一般需要配置:
实体底座或相应光源阵列;
TTD或Temperature Controlled Reactor;
具有制冷能力的外部循环设备;
相应的管路、接头和导热结构;
样品温度检测装置。
TTD连接外部循环设备后,可以作为冷却板使用。对于采用反应瓶进行平行光化学实验的用户,还可以考虑Temperature Controlled Reactor(TCR),通过循环液体对反应容器进行温度控制。
Lumidox II控制器不直接控制样品加热,主动冷却底座也不具备样品加热功能。
如果外部循环设备同时具备加热能力,TTD可作为加热板或冷却板使用,将热量传递给反应块或样品容器。TCR也可以与外部循环加热或制冷设备配合,用于需要设定反应温度的光化学实验。
因此,Lumidox II系统可以组成具有加热或制冷能力的实验装置,但热源或冷源来自外部循环设备,而不是LED控制器本身。
TTD属于热传递平台,可以连接外部循环加热或制冷设备。它可以用于:
冷却Lumidox II实体底座阵列;
对样品容器或反应块进行加热;
对样品容器或反应块进行制冷;
与其他热传递附件组合使用。
厂家给出的TTD建议温度范围为-40℃至80℃。该范围是装置的建议工作范围,并不代表所有样品都能在这一范围内保持相同的实际温度。
TCR属于温控反应装置,主要面向多瓶平行光化学实验。与适配的Lumidox II阵列及外部循环设备组合后,可以对多个反应容器进行加热或制冷。
厂家公布的TCR设计使用温度范围为-40℃至82℃。在规定的配套条件下,温度均匀性指标可达到±1℃。实际配置时需要确认反应瓶规格、孔位数量、光源间距、循环设备能力以及LED阵列型号。
| 实验需求 | 建议考虑的配置 |
|---|---|
| 常规光照,不配置循环设备 | 主动冷却底座 |
| 细胞或生物样品光照 | 主动冷却底座,并监测样品温度 |
| 较高光输出 | 实体底座加TTD,或流道冷却底座 |
| 长时间连续照射 | 优先考虑外部循环冷却 |
| 需要准确控制反应瓶温度 | TCR加外部循环设备 |
| 需要加热样品 | TTD或TCR加循环加热设备 |
| 需要将样品降至室温以下 | TTD或TCR加循环制冷设备 |
| 需要使用强磁场搅拌装置 | 避免直接选择可能受磁场干扰的主动冷却底座 |
| 只需要冷却LED,不需要TTD | 流道冷却底座 |
循环设备显示的是循环液体或设备内部的设定温度,不一定等于样品内部的真实温度。两者之间可能存在温差和响应时间。
影响样品温度的主要因素包括:
LED阵列的波长和光输出;
照射持续时间;
样品体积;
容器材质和壁厚;
反应块与容器的接触情况;
循环液体温度和流量;
环境温度;
搅拌方式;
是否使用保温盖或其他热传递附件。
对于温度敏感的实验,建议将温度探头放置在具有代表性的样品位置进行验证,不应只记录循环设备的设定值。
为了确认Lumidox II温控配置,建议用户提供:
使用96孔板、24孔板还是玻璃反应瓶;
样品容器的品牌、型号、尺寸和材质;
目标照射波长;
单次照射时间和光功率要求;
目标温度及允许波动范围;
是否需要低于室温运行;
是否需要主动加热;
是否需要磁力搅拌或振荡;
单次运行的样品数量;
实验室是否已有循环加热或制冷设备。
曦源科仪可根据实验条件,协助用户确认Lumidox II阵列规格、底座类型、TTD、TCR、循环设备及样品容器之间的适配关系。
如需了解Lumidox II光化学LED阵列的温控配置,可联系曦源科学仪器(上海)有限公司,并提供样品容器、目标波长、照射时间及温度要求,以便进一步确认配置。